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u 利用光學(xué)投影的原理將被測(cè)的沖擊試樣U型和V型缺口與投影儀上的標(biāo)準(zhǔn)板圖進(jìn)行對(duì)比以確定被檢測(cè)的沖擊試樣加工是否合格,該設(shè)備操作簡便,檢查對(duì)比直觀、效率高,是沖擊試樣加工過程中必備的檢測(cè)設(shè)備。
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